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20年專注等離子清洗機研發生產廠家
CRF-APS- 500W
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立即咨詢等離子清洗機，又名等離子處理機，等離子表面處理設備。其基本原理是：在清理過程中，由工作中氣體在磁場的作用下所激起的等離子體與物件表層產生物理學和化學變化。物理反應原理是活性顆粒轟擊待清理表層，使污染物擺脫表層，污染物被排出；化學變化原理是各種各樣活性顆粒與污染物反應形成揮發物化學物質抽出，進而做到清理目的。一般用以氫、氮、氧、氬等工作氣體。
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CRF plasma 等離子清洗機 版權所有 ?2023
